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抛光砂光机的类型

抛光分机械抛光、化学抛光、电子束抛光、离子束抛光，较普遍采用的是化学机械抛光。化学机械抛光是化学腐蚀和机械磨削同时进行，分为铜离子抛光、铬离子抛光和普遍采用的二氧化硅胶体抛光。二氧化硅胶体抛光是由极细的二氧化硅粉、氢氧化钠(或有机碱)和水配制成胶体抛光液。在抛光过程中，氢氧化钠与硅表面反应天生硅酸钠，通过与二氧化硅胶体的磨削，硅酸钠进进抛光液，两个过程不停顿地同时进行而达到抛光的目的。

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